No.発明名称出願日公報番号出願人
1投影露光装置、及び該装置の調整方法1983.12.19特開平7-321031(株)ニコン
2感光基板の露光装置1984.11.26特開平5-3142(株)ニコン
3露光方法1993.03.03特開平6-260391(株)ニコン
4露光方法1993.03.03特開2000-3871(株)ニコン
5走査露光方法、走査型露光方法、及び前記方法を用いるデバイス製造方法1993.03.03特開2000-3870(株)ニコン
6走査露光方法、走査型露光方法、及び前記方法を用いるデバイス製造方法1993.03.03特開2000-3869(株)ニコン
7走査露光方法、走査型露光方法、及び前記方法を用いるデバイス製造方法1993.03.03特開2000-3868(株)ニコン
8アライメント方法1993.04.13特開平6-302495(株)ニコン
9投影露光装置1995.05.19特開平8-316123(株)ニコン
10投影露光装置1995.07.11特開平9-26554(株)ニコン
11投影露光装置1995.08.07特開平9-50952(株)ニコン
12投影露光装置1995.08.09特開平9-50954(株)ニコン
13投影露光装置1995.09.12特開平9-82601(株)ニコン
14投影露光装置及び該装置を使用した露光方法1997.05.15特開平10-321498(株)ニコン
15露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法1998.11.24特開平11-224854(株)ニコン
16露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法1998.11.24WO99-027569(株)ニコン
17投影露光方法及び装置1998.12.10WO99-031717(株)ニコン
18投影露光装置2008.08.07特開2010-39347(株)目白プレシジョン
19投影露光装置2008.10.08特開2010-93056(株)目白プレシジョン
20投影露光装置のアライメント方法2009.04.07特開2010-243823(株)目白プレシジョン
21基板パターンの製造方法及び露光装置2010.12.24特開2012-133280(株)目白プレシジョン
22三次元デバイスの製造方法2011.03.02特開2012-181415(株)目白プレシジョン
23アライナ装置2011.06.01特開2012-253143(株)目白プレシジョン
24露光装置、露光方法及びマイクロデバイス2012.09.25特開2014-66818(株)目白プレシジョン
25露光装置2017.11.16特開2019-90961リバーエレテック(株)